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WAYEAL皖儀
SOLUTIONS FOR THESEMICONDUCTORINDUSTRY皖儀科技半導體行業(yè)監(jiān)測/檢測解決方案
核心內容
·企業(yè)介紹
·AMC監(jiān)測解決方案一站式密封性檢測解決方案實驗室分析儀器解決方案
CONTENTS
01 企業(yè)介紹
COMPANYPRESENTATION
公司簡介 01
核心優(yōu)勢 03
生產制造體系 05
售后服務體系 06
02
潔凈車間AMC監(jiān)測
CLEANROOM AMC MONITORING
AMC監(jiān)測背景 07
AMC監(jiān)測解決方案 08
AMC監(jiān)測案例 09
03
污染源排口在線監(jiān)測
ONLINE MONITORING OF POLLUTION SOURCEEMISSIONS
酸性排氣在線監(jiān)測 11
堿性排氣在線監(jiān)測 13
有機物排氣在線監(jiān)測 14
廢水在線監(jiān)測 15
04
一站式密封性檢測解決方案
ONE-STOP SEALINGTESTING SOLUTION
05
應用背景 18
方案構成 19
核心產品介紹 20
場景應用 22
實驗室分析儀器解決方案
LABORATORYANALYTICALINSTRUMENTATION SOLUTIONS
分析儀器的應用 24
離子色譜儀的應用 25
液相色譜質譜解決方案 26
氣相色譜及質譜在半導體制造中應用 27
01 企業(yè)介紹COMPANYPRESENTATION
公司簡介
COMPANYPRESENTATION
安徽皖儀科技股份有限公司（簡稱：皖儀科技）成立于2003年，2020年在上交所科創(chuàng)板上市，是安徽省首家科創(chuàng)板上市的企業(yè)（股票代碼：688600）。
作為一家全球精密科學儀器的專業(yè)供應商，皖儀科技業(yè)務主要涵蓋工業(yè)檢測儀器、在線監(jiān)測儀器、實驗室分析儀器、醫(yī)療及生命科學儀器四大領域，現有員工1100余名，業(yè)務覆蓋全球20多個國家。
皖儀科技一直堅持研發(fā)創(chuàng)新和產品領先的戰(zhàn)略，近年來持續(xù)加大研發(fā)投入，每年研發(fā)投入占營收的 20 % 左右，先后建立了博士后科研工作站、院士工作站、國家級企業(yè)技術中心等科研平臺，被評為國家級專精特新“小巨人”企業(yè)和國家知識產權示范企業(yè)等。
未來，皖儀科技將秉承“品質皖儀服務皖儀”的企業(yè)精神，致力于成為在精密科學儀器和生命健康領域具有較強國際競爭力的企業(yè)，成為富有責任感、受人尊敬的中國企業(yè)典范！
CSIA 中國半導體行業(yè)協(xié)會 M (Mtia°China Semiconductor Industry Association 集成電路材料產業(yè)技術創(chuàng)新聯盟中國半導體行業(yè)協(xié)會 中國半導體行業(yè)協(xié)會 集成電路材料產業(yè)技術會員單位 會員單位 創(chuàng)新聯盟會員單位
核心優(yōu)勢 COREBENEFITS
研發(fā)團隊/R&DTEAMS
皖儀科技一直堅持研發(fā)創(chuàng)新和產品領先的戰(zhàn)略，近年來持續(xù)加大研發(fā)投入，連續(xù)4年每年研發(fā)投入占營收的20 % 左右，截至2024年12月底，研發(fā)團隊400余人。
其技術領頭人來自清華大學、中國科學技術大學、西安交通大學、哈爾濱工業(yè)大學、南京航空航天大學等國內一流學府。公司研發(fā)實力在同行企業(yè)中處于較高水平，并取得了多項重要成就，多次承擔國家火炬計劃，獲得多項科學技術獎項。此外，公司還被認定為國家級博士后科研工作站、國家企業(yè)技術中心、安徽省院士工作站等，并通過國際CMMI5級認證。
研發(fā)人才／R&DTALENTS
知識產權/INTELLECTUALPROPERTY
中國發(fā)明專利78項，國際專利2項，在審發(fā)明專利138項，實用新型及外觀177項，軟件著作權118項。
（截止2025年3月）
發(fā)明專利
在審發(fā)明專利
生產制造體系
MANUFACTURINGSYSTEM
公司產品研發(fā)過程中開展可靠性設計和可靠性試驗工作，通過使用各種環(huán)境試驗設備模擬氣候環(huán)境中的高溫、低溫、高溫高濕以及溫度變化等情況，加速反應產品在使用環(huán)境中的狀況，來驗證其是否達到在研發(fā)、設計、制造中預期的質量目標，從而對產品整體進行評估，以確定產品可靠性壽命。
公司所有產品都在轉量產前通過可靠性測試，確保上市新產品達到預期設計功能、性能和使用壽命的要求，滿足客戶對產品質量的需求。
公司設有數控精密加工車間，配備進口德瑪吉(DMG)數控車削中心、米克朗(MIKRON)五軸加工中心和高速立式加工中心、馬扎克(MAZAK)立式加工中心，核心關鍵精密零部件完全自主加工，有效保證零部件尺寸精度和形位公差，確保系統(tǒng)總成和儀器裝配一致性和性能穩(wěn)定性。
售后服務體系
AFTER-SALESSERVICESYSTEM
團隊保證
公司已經建立了一支能夠適應客戶需求，具備快速反應能力，能向客戶提供優(yōu)質技術方案、技術咨詢和售后服務的分級技術服務團隊。
組織保證
公司在各大區(qū)設立了辦事處，以便能對所轄區(qū)域快速反應，及時服務，以此來提高產品的美譽度。
管理保證
把技術服務工作作為相關專業(yè)部門人員的一個必備職責來抓。
能力保證
加強對各級技術支持體系和售后服務人員和培訓。
制度保證
公司建立了完善的技術支持與售后服務體系和激勵制度。
02 潔凈車間AMC監(jiān)測 CLEANROOMAMCMONITORING
AMC監(jiān)測背景
AMCMONITORINGBACKGROUND
氣體分子污染物（AIRBORNEMOLECULARCONTAMINANTS）簡稱AMC，包含酸、堿、有機物等。隨著半導體制程節(jié)點不斷逼近摩爾極限，芯片生產對于環(huán)境潔凈度的要求越來越高，即便是納米級的AMC也會對制程造成影響，從而降低產品良率和產能。
AMC監(jiān)測解決方案
AMCMONITORING SOLUTION
2
酸堿陰陽離子： N { \mathsf O } _ { 3 } ^ { - } 、CL、F、 S { \mathsf { O } } _ { 4 } ^ { \ 2 - } 、 N H _ { 4 } ^ { + } 等
D1
無機氣態(tài)分子：NH、N \mathsfit { O } _ { x } , HCL、HF、 { \mathsf { S O } } _ { 2 } , ， \mathsf { O } _ { 3 }
有機物：TVOC、IPA、ACE-TONE、PGME、PGMEA等分項VOC
| 传感器零件编号 SensorPartsNO. | 传感器供应商 SensorVendor | 数量 QTY | 功能 Function | 技术 Technology | 范围 Range | 密度 LDL |
| AQ7021 | 皖仪 | 1 | NH3+NO+NO2 | 化学发光法 | 0-50ppb | 0.1ppb |
| AQ7011 | 皖仪 | 1 | SO2+H2S | 紫外荧光法 | 0-50ppb | 0.1ppb |
| AQ7040 | 皖仪 | 1 | 03 | 紫外吸收法 | 0-50ppb | 0.2ppb |
| AQ9010 | 皖仪 | 1 | HF | TDLAS | 0-50ppb | 0.1ppb |
| AQ9020 | 皖仪 | 1 | HCl | TDLAS | 0-50ppb | 0.1ppb |
| AQ9050 | 皖仪 | 1 | TVOC | PID | 0-1000ppb | 0.5ppb |
主要產品/MAINPRODUCTS酸堿陰陽離子分析儀
IC7000(IC)
監(jiān)測物質： N { \mathsf O } _ { 3 } ^ { - } 、CL-、F、 S { \mathsf { O } } _ { 4 } ^ { \ 2 - } 、 N H _ { 4 } ^ { + } 等陰陽離子監(jiān)測原理：IC7000支持24小時無人值守運行，配備自動進樣、在線稀釋、實時校準功能減少人工干預，提升數據連續(xù)性；支持4G/5G遠程數據傳輸，可通過云平臺實時查看數據、調整參數；工作溫度范圍通常為* 1 0 ^ { \circ } \mathsf C 至 . 5 0 ^ { \circ } \mathsf { C } ，適應高寒、高溫等極端環(huán)境。
核心指標：多種離子同步檢測能力；雙通道超濾池并聯，大大延長更換周期；無需氮氣源，通過空氣即可實現淋洗液加壓除氣泡。
污染主要工藝來源：刻蝕、清洗、濕法工藝
主要產品/MAINPRODUCTS有機物分析儀
監(jiān)測物質：揮發(fā)性有機物 (116種VOCS)
監(jiān)測原理：VM1750型揮發(fā)性有機物連續(xù)監(jiān)測系統(tǒng)是一款分析環(huán)境空氣中多組分VOCS的高精度儀器，該系統(tǒng)由樣品前處理模塊和氣相色譜-質譜聯用儀（GCMS）模塊構成，采用低溫冷凍吸附方式將空氣中的痕量揮發(fā)性有機物富集，隨后高溫解吸將樣品傳輸至氣相色譜-質譜聯用儀（GCMS）分離并檢測。
核心指標：檢出限 { \tt s } 0 . 1 ppb 污染主要工藝來源：光刻、清洗劑、外氣
AMC監(jiān)測案例
AMC MONITORING CASE
已逐步實現半導體AMC監(jiān)測國產化
1、在合肥、北京、武漢等12時晶圓廠，皖儀半導體AMC監(jiān)測儀器正在取代國際一線進口產品，實現部分國產替代
2、持續(xù)發(fā)展激光光譜、質譜、離子色譜等技術在半導體AMC監(jiān)測領域的應用
03 污染源排口在線監(jiān)測 ONLINE'MONITORING OF POLLUTION SOURCE EMISSIONS
酸性排氣在線監(jiān)測
ONLINEMONITORING OFACIDIC EMISSIONS
CEMS1220煙氣排放連續(xù)監(jiān)測系統(tǒng)
系統(tǒng)介紹：
CEMS1220煙氣排放連續(xù)監(jiān)測系統(tǒng)采用紫外差分光譜技術直接測量S ; 0 _ { / { 2 } { 2 } } 、NO、 N \mathsf { O } _ { 2 } 、 { \mathsf { C l } } _ { 2 } ；整套系統(tǒng)由氣態(tài)污染物0 S 0 _ { \scriptscriptstyle 2 } 、NO、 N \mathsf { O } _ { 2 } 1 \mathsf { O } _ { 2 } 、CI等）監(jiān)測、煙氣參數（溫度、壓力、流速、濕度等）監(jiān)測、顆粒物監(jiān)測及數據采集與處理單元4個子系統(tǒng)組成。
系統(tǒng)特點：
ON直測
無需氮氧化物轉化爐，利用差分吸收光譜技術(DOAS)直接測量煙氣中NO濃度。
維護方便
2氣體分析儀中光源、氣體室和光譜儀之間采用光纖連接，各部件維護和更換簡單、成本低。
配置靈活
5 可以根據現場的具體工況參數和技術要求，進行靈活優(yōu)化的配置，充分滿足用戶的要求。
應用范圍：
火力發(fā)電、鋼鐵冶金、石化行業(yè)、水泥行業(yè)、工業(yè)窯爐、工業(yè)鍋爐、半導體行業(yè)等。
| 系统型号 | CEMS1200 | CEMS1250 | CEMS1220 |
| 系统类型 | 热湿法 | 冷凝法 | 热湿法 |
| 氮氧化物原理 | 转换炉法 | ||
| 氧含量方法 | 电化学 | ||
| 湿度仪 | 阻容法 | ||
| 流速仪 | 皮托管法 | ||
| 温度 | 铂电阻法 | ||
| 认证量程 | SO:0~70 mg/m³ | SO2:0~45mg/m³ | SO2:0~35mg/m³ |
| NO:0~65mg/m³ | NO:0~45mg/m³ | NO:0~35mg/m³ NOz:0~100 mg/m² | |
CEMS1900煙氣排放監(jiān)測系統(tǒng) （傅里葉紅外法）
系統(tǒng)介紹：
本系統(tǒng)采用傅里葉紅外吸收技術，實現對生活垃圾焚燒、危廢和固廢焚燒等煙氣的氣態(tài)污染物的測量。系統(tǒng)包括預處理單元、分析單元和數據采集與處理單元，可以連續(xù)監(jiān)測 { \mathsf { S O } } _ { 2 } 、NO、 N \mathsf { O } _ { 2 } 、HF、HCI、CO、 { \mathsf { C O } } _ { 2 } 、 { \sf H } _ { 2 } \sf { O } 、NH3等參數的濕基值、干基值和折算值，并且根據煙氣溫度、壓力、流速等多項相關參數統(tǒng)計排放率和排放總量。
系統(tǒng)原理：
紅外光源發(fā)出的光通過進入干涉儀形成干涉光譜，經測量池內樣氣的特征吸收后聚焦到檢測器上。干涉圖經過放大器后被放大、過濾、數字化，數字化信號被進一步地數學處理，變換成單通道光譜圖。最終對光譜圖進行進一步分析，換算得到各個氣體參數的濃度值。
| 项目 | 指标 |
| SO2量程 | (0-75)mg/m²,(0-2000)mg/m可定制 |
| NO量程 | (0-100)mg/m,(0-2000)mg/m可定制 |
| NO2量程 | (0-100)mg/m,(0-1000)mg/m可定制 |
| NH3量程 | (0~5)mg/m²,(0~50)mg/m可定制 |
| HCI量程 | (0~100)mg/m²,(0~150)mg/m可定制 |
| HF量程 | (0-3)mg/m²,(0~50)mg/m可定制 |
| CO量程 | (0~100)mg/m²,(0-1000)mg/m可定制 |
| H2O量程 | (0-40)% |
| CO量程 | (0~25)% |
| O2量程 | (0~25)% |
| 零点漂移 | ≤+2%F.S. |
| 量程漂移 | ≤+2%F.S. |
| 线性误差 | ≤+2%F.S. |
| 响应时间 | ≤200s，HCI、HF≤400s (50m伴热管线) |
堿性排氣在線監(jiān)測
ALKALINEEXHAUST ONLINEMONITORING
LG1100可調諧半導體激光氣體分析儀
產品介紹：
LG1100激光氣體分析儀采用了先進的光譜監(jiān)測手段--可調諧半導體激光吸收光(TunableDiodeLaserAbsorptionSpectroscopy,TDLAS)，激光氣體分析儀是采用一體化設計、高集成度的激光氣體分析系統(tǒng)。相對于傳統(tǒng)的監(jiān)測方法，可調諧半導體激光吸收光譜技術具有實時在線、非接觸測量、待測氣體選擇性高等優(yōu)點，能夠更準確、更實時的反映現場待測物的濃度。系統(tǒng)通過無須采樣預處理的原位測量方式，能對各類工業(yè)過程氣體、環(huán)保排放煙氣等過程氣體進行快速、準確和可靠的測量，可用于CO、 { \mathsf { C O } } _ { 2 } 、 C H _ { 4 } 、 N { \sf H } _ { 3 } 、 \mathsf { O } _ { 2 } 、 H _ { 2 } O 、HCI、HF等氣體監(jiān)測，為各行業(yè)氣體在線監(jiān)測提供可靠的解決方案。
產品介紹：
·高精度、漂移極低 ·可測量復雜氣體混合物及其組分變化 ·響應時間<1s·高選擇性、無交叉干擾 ·不受粉塵的影響 ·維護周期長，成本低可測量高溫氣體、最高可達 5 0 0 ^ { \circ } \mathsf { C } ·原位測量，無需采樣 ·可同時測量氣體濃度與溫度
LG8000/LG8100可調諧激光氣體分析儀
產品介紹：
LG8000/LG8100激光氣體分析儀采用了先進的光譜監(jiān)測手段一-可調諧半導體激光吸收光(Tunable Diode Laser Absor-ption Spectrosco-py)，獲取待測氣體特征吸收的光譜譜線。相對于傳統(tǒng)的監(jiān)測方法，可調諧半導體激光吸收光譜技術具有實時在線、非接觸測量、待測氣體選擇性高等優(yōu)點，能夠更準確、更實時的反映現場待測物的濃度。系統(tǒng)通過原位高溫抽取，采用多次反射池，檢測限低。能對各類工業(yè)過程氣體、環(huán)保排故煙氣等過程氣體進行快速、準確和可靠的測量，可用于CO、 { \mathsf { C O } } _ { 2 } 、 C H _ { 4 } 、 N { \sf H } _ { 3 } 、 \mathsf { O } _ { 2 } . ， H _ { 2 } O 、HCI、HF等氣體監(jiān)測，為各行業(yè)氣體在線監(jiān)測提供可靠的解決方案。
產品介紹：
·高精度、漂移極低高選擇性、無交叉干擾·體積小，重量輕
采用多次反射池，檢測限低原位抽取設計，全程高溫（ > 2 0 0 ^ { \circ } \mathsf { C } ) （防止NH吸附結晶
維護周期長，成本低
響應時間 < 3 0 5
可測高溫氣體，不受粉塵影響
有機物排氣在線監(jiān)測
ONLINEMONITORING OF ORGANIC EMISSIONS
VOCs在線監(jiān)測系統(tǒng)由氣態(tài)污染物監(jiān)測子系統(tǒng)、煙氣參數監(jiān)測子系統(tǒng)及數據采集與處理子系統(tǒng)組成，其中氣態(tài)污染物監(jiān)測子系統(tǒng)的預處理單元、分析單元和數據采集與處理子系統(tǒng)安裝在機柜內，可以連續(xù)監(jiān)測甲烷（ ( C H _ { 4 } ) 、總烴（THC）、非甲烷總烴(NMHC）等污染因子。
VM1700VOCs在線監(jiān)測系統(tǒng)（氣相色譜+FID檢測器）
系統(tǒng)原理：
針對有機廢氣具有水汽含量高、濃度大、工況復雜等特點，設計開發(fā)有機廢氣在線分析儀，采用全程 1 7 5 ^ { \circ } { C } 高溫伴熱樣品傳、高溫FID檢測，樣品經內置過濾器過濾后，被采集到定量環(huán)中，通過想氣將定量環(huán)中的樣品分別送入色造柱中進行分高，然后依次進入FID檢測器進行檢測。
系統(tǒng)特點：
采用標準的氣相色譜分析方法，測量準確。
2 采用全程高溫伴熱設計，從采樣到分析全程高溫，避免高沸點VOCs的附著，防止部件腐蝕。
3 系統(tǒng)采用主氣路抽氣、旁路分析儀進氣的取樣方式，保證系統(tǒng)的響應時間。
4系統(tǒng)經過三級過濾，保證分析儀的使用壽命。
廢水在線監(jiān)測
ONLINEWASTEWATERMONITORING
WS1501型CODcr水質在線自動監(jiān)測儀
系統(tǒng)介紹：
待測樣品中加入定量的重鉻酸鉀溶液，在強酸介質中，以硫酸銀作為催化劑，并加入硫酸汞作為氯離子掩蔽劑，混合液經高溫、高壓密閉消解后，通過光電比色法測定三價鉻的產生量，得到吸光度，依據朗伯-比爾定律計算出待測樣品中CODcr值，其中消耗的重鉻酸根離子量相當于可氧化的有機物量。
儀器特點：
獨有的三級精密光電計量裝置，試劑抽取快速精確，大幅減1小蠕動泵管老化的影響；2 精確的溫度補償算法及環(huán)境光消除措施，無論春夏秋冬，精度始終如一；3 高可靠的試劑選擇閥和消解瓶組件，故障率低，維護工作量?。煌陚涞南鈮毫z測保護、溫度保護及漏液報警功能，確保4設備安全運行；5 獨特的維護流程現場可編輯，提高運維效率；6 更為人性化的觸摸式圖形界面，操作極其簡便，無須勞神記憶，觸手可及；4 自動電控安全門設計，細心呵護設備運維人員安全。
| 项目 | 技术指标 |
| 测量方法 | 重铬酸钾氧化分光光度法 |
| 检测范围 | 0~5000.0mg/L(可扩展) |
| 示值误差 | ±5% |
| 重复性误差 | ≤3% |
| 24小时低浓度漂移 | ±5mg/L |
| 24小时高浓度漂移 | 0~200mg/L，+5%;200~5000mg/L，，+3%;2000~5000mg/L，+5% |
| 外形尺寸 | 500mm*420mm*1470mm (宽*深*高) |
WS1503型氨氮水質在線自動監(jiān)測
系統(tǒng)介紹：
在堿性介質和亞硝基鐵氰化鈉（硝普鈉）存在的條件下，待測水樣中的銨根離子與水楊酸鹽和次氯酸離子反應生成水溶性的藍色化合物，該物質在特定波長處具有最大吸收，通過光電比色法，根據朗伯-比爾定律，計算出待測樣品中氨氮的含量，測量值通過顯示屏顯示。其中加入特定的掩蔽劑除去陽離子（特別是鈣、鎂離子）的干擾。
系統(tǒng)特點：
獨有的三級精密光電計量裝置，試劑抽取快速精確，大幅減1小蠕動泵管老化的影響；2 精確的溫度補償算法及環(huán)境光消除措施，無論春夏秋冬，精度始終如一；3 高可靠的試劑選擇閥和消解瓶組件，故障率低，維護工作量??；4 獨特的維護流程現場可編輯，提高運維效率；5 更為人性化的觸摸式圖形界面，操作極其簡便，無須勞神記憶，觸手可及；6 低溫冷凝裝置，突破性的解決試劑長時間保存問題;
| 项目 | 技术指标 |
| 测量方法 | 重铬酸钾氧化分光光度法 |
| 检测范围 | 0~5000.0mg/L(可扩展) |
| 示值误差 | ±5% |
| 重复性误差 | ≤3% |
| 24小时低浓度漂移 | ±5mg/L |
| 24小时高浓度漂移 | 0~200mg/L，+5%；200~5000mg/L，+3%；2000~5000mg/L，+5% |
| 外形尺寸 | 500mm*420mm*1470mm(宽*深*高) |
| 水质在线自动监测仪（部分） | |||
| 型号 | 监测物质 | 原理 | 量程 |
| WS1504s | 总磷 | 过硫酸盐氧化-钼酸铵分光光度法 | 0~50.0mg/L (可根据客户需求扩展量程) |
| WS1505s | 总氮 | 碱性过硫酸钾消解-紫外分光光度法 | 0~200.0mg/L (可扩展) |
| WS1506s | 高锰酸盐 | 高锰酸钾氧化-电位滴定法 | 0~25.0mg/L (可扩展) |
| WS1507 | 硝酸盐氮 | 间苯二酚分光光度法 | 0~50mg/L |
| WS1508 | 总碑 | 二硫代二安替比林甲烷分光光度法 | 0~1.0mg/L (可扩展) |
| WS1509 | 正磷酸盐 | 钼酸铵分光光度法 | 0~50mg/L (可扩展) |
| WS1510 | 总铅 | 过硫酸盐氧化-啉分光光度法 | 0~4mg/L (可扩展) |
| WS1512 | 总镉 | 过硫酸盐氧化-啉分光光度法 | 0~0.4mg/L (可扩展) |
| WS1515 | 六价铬 | 二苯碳酰二分光光度法 | 0~5mg/L |
| WS1516 | 总铬 | 过硫酸盐氧化一二苯碳酰二肼分光光度法 | 0~5mg/L (可扩展) |
| WS1518 | 总镍 | 过硫酸盐氧化-丁二酮分光光度法 | 0~10mg/L (可扩展) |
| WS1520 | 总铜 | 过硫酸盐氧化-浴铜灵分光光度法 | 0~5mg/L |
| WS1522 | 总锌 | 过硫酸盐氧化-锌试剂分光光度法 | 0~5.0mg/L |
| WS1524 | 总铁 | 过硫酸盐氧化-邻菲啰啉分光光度法 | 0~10mg/L |
| WS1525 | 氟化物 | 氟试剂分光光度法 | 0~50mg/L (可扩展) |
| WS1526 | 总锰 | 过硫酸盐氧化-甲醛分光光度法 | 0~20mg/L (可扩展) |
| WS1527 | 余氯 | N,N-二乙基-1,4苯二胺分光光度法 | 0~20mg/L (可扩展) |
04 一站式密封性檢測解決方案ONE-STOP SEALING TESTING SOLUTION
應用背景
BACKGROUND
工業(yè)檢測儀器在半導體的應用背景
在大型半導體生產中，氨質譜檢漏儀廣泛應用于各種工藝，如刻蝕、CVD、PVD、真空爐、離子注入等。它能在工藝維護后迅速確認工藝完整性和漏孔修復部位，確保次級生產中的真空管線和泵、氣柜及復雜氣體輸送管線以及生產設施和治理的安全高效。
前道單晶爐管路廠務特氣管路儲氣、液罐
中道
CVD
PVD
等離子刻蝕/清洗
離子注入
熱處理爐
管路
后道封裝
方案構成
COMPOSITIONOFTHEPROGRAM
氨質譜檢漏儀
SFJ-16F雙分子泵氨質譜檢漏儀為滿足客戶嚴苛的泄露檢測應用而生。采用自有獨特的軟件算法和經客戶驗證的真空系統(tǒng)設計。SFJ-16F可在量程范圍內的快速響應，并在極短的時間內完成從達到開檢條件到給出測試結果。獨特設計的真空系統(tǒng)可以持續(xù)較高的氮氣抽速和響應，滿足客戶需求。
核心產品介紹
INTRODUCTIONTO COREPRODUCTS
| 指标项 | SFJ-16F(双泵) |
| 最小可检漏率（真空模式） | 5x10-13Pa.m³/s |
| 最小可检漏率(吸枪模式) | 5x10-Pa.m³/s |
| 检漏口最大压力 | Gross:1500 Pa; Fine:200 Pa; Ultra:40 Pa |
| 粗抽能力 | 36m³/h |
| 检漏口规格 | DN 40 IS0-KF |
| 检测介质 | 氮气；氢气 |
| 启动时间 | ≤2min |
| 接口 | RS-232/485 ,WLAN |
| 输入/输出接口 | Digital and Analog I/O,Relays |
| 尺寸 | 805*500*1100mm |
| 重量 | 155kg |
| 电压 | 220V±10%,50HZ |
| 最大功率 | 1500W |
| 语言 | 中/英文 |
| 温度 | 10°℃~40℃ |
場景應用
SCENARIOAPPLICATION
皖儀科技一站式密封性檢測解決方案已覆蓋全球 2 0 + 國家，助力數方條自動化產線升級，真正實現了“替代進口”。憑借專業(yè)的密封性檢測解決方案和優(yōu)質、高效、貼心的全方位服務，皖儀科技助力全球數方條自動化產線，為客戶不斷創(chuàng)造更大的價值。
05 實驗室分析儀器解決方案LABORATORY ANALYTICAL
分析儀器的應用
APPLICATIONSOFANALYTICALINSTRUMENTS
分析儀器在半導體工藝流程中的應用
離子態(tài)雜質分析
離子色譜儀
·晶圓表面 ·電子特氣·濕電子化學品 ·潔凈空氣·光刻膠及配套試劑 ·封測·蝕刻劑
有機污染物/有機成分分析
氣相色譜、氣質聯用儀、液相色譜、液質聯用儀
晶圓表面有機污染物 ·電鍍液添加劑分析
濕電子化學品的有機 電子電器中有害有污染物 機物
光刻膠有機物分析/ 超純水有機雜質配方剖析
離子色譜的應用
APPLICATIONSOFIONCHROMATOGRAPHY
離子色譜在半導體超純水和高純試劑中痕量雜質離子的檢測
01多功能離子色譜在半導體超純水的檢測
皖儀IC6600多功能離子色譜 + , AS3120大體積自動進樣器
無析出污染的高純PP進樣瓶，高純高分子材料管路設計；
大體積35mL進樣 ^ + 在線富集；自動20-100ppt標準曲線；
實現20-100ppt檢測能力；定量重復性小于 3 %
加標回收率 8 0 % -- 1 2 0 %
通過在在權威機構潔凈實驗室驗證，滿足ASTM-28nm以下半導體工藝節(jié)點的對超純水中痕量雜質離子的檢測需求（低于20ppt）；
02多功能離子色譜在半導體高純試劑檢測的應用
高純氫氟酸中痕量氯離子，硫酸根離子，硝酸根離子的檢測高純冰醋酸中痕量氯離子，氟離子，硫酸根離子，溴離子的檢測高純雙氧水中痕量氯離子，硝酸根離子，硫酸根離子的檢測；高純硝酸中痕量氯離子，硫酸根離子，氟離子的檢測；高純濃氨水中痕量氟離子，氯離子，硫酸根離子的檢測，
03半導體表面痕量無機雜質離子如F，CL、SO2-和 NH+等檢測
液相色譜質譜解決方案
LIQUID CHROMATOGRAPHYMASS SPECTROMETRY SOLUTIONS
三重四極桿LC-MS/MS 憑借其高靈敏度MRM檢測、復雜基質耐受性及自動化方法開發(fā)能力，成為半導體行業(yè)超純試劑分析、工藝過程監(jiān)控及污染物溯源的核心工具。通過精準控制有機污染物、離子雜質及功能性添加劑的含量，該技術為納米級芯片制造的“超潔凈”環(huán)境提供了關鍵質量保障，直接支撐半導體器件的高性能與高可靠性。
液相色譜的優(yōu)勢
HPLC、UHPLC技術，作為高度穩(wěn)定、可靠、重現性好的分離技術，已經成功地在全世界各大實驗室的各種苛刻分析領域中廣泛應用
1 節(jié)省每個樣品分析時間和支出，并大大改善結果
2 高流速和高通量獲得理想分離度和靈敏度
3 節(jié)省每個樣品分析時間和支出，并大大改善
4 適用專用亞二微米色譜柱獲得卓越柱效
樣品種類
檢測參數
01、試劑及工藝溶液
01、有機污染物
清洗液、刻蝕液、電鍍液、光刻膠中的有機污染物、工藝性雜質、材料純度等
酚醛樹脂、甲基丙烯酸酯類聚合物、甲醇、乙醇、PGMEA、材料分解的小分子化合物、十二烷基硫酸鈉(SDS）、吐溫類
02、晶圓和器件表面
02、離子型與功能性雜質雜
晶圓表面萃取物、器件拆解樣品表面殘留有機污染物
酸根和胺類、痕量摻雜劑的濃度、光敏劑如重氮萘醌(DNQ）類化合物的殘留量、電鍍添加劑如整平劑（如SPS）、光亮劑（如芐叉丙酮）
03、環(huán)境和輔助材料
03、特殊工藝試劑濃度
空氣中有機物經溶劑溶解后的樣品，封裝材料中塑封料、焊錫膏等的溶劑萃取液
顯影液TMAH濃度、CVD前驅體純度如TEOS中的有機雜質（如乙醇、醛類)
氣相色譜及質譜在半導體制造中應用
GAS CHROMATOGRAPHY AND MASS SPECTROMETRY AREUSEDIN SEMICONDUCTORMANUFACTURING
| 洁净室空气监测 (AMC-气 态分子污染物） | 超纯水 (UPW)& 工艺化学品分析 | 工艺气体 纯度验证 | 材料释气 (OUTGASSING) 分析 | 故障分析与 污染潮源 |
| 实时监控洁净室空 | 检测水中/化学品中 | 确保特种气体（如 | 评估光刻胶、封装材 | 识别导致晶圆缺陷、 |
| 气中痕量VOCS、 | 残留溶剂、有机物杂 | SIH4,PH3,ASH3, | 料、垫圈等释放的挥 | 设备故障或工艺异常 |
| 酸/碱气体、掺杂 | 质 | B2H6,N2O)及载 | 发性有机物 | 的污染源 |
| 剂等(VM1750) | (GC6100&GM6100) | 中杂质含量达标 (GC6100&GM6100) | (GC6100&GM6100) | (GC6100&GM6100) |
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